一种衬底旋转并与加热器分隔的MOCVD反应器

摘要

本实用新型属于MOCVD反应设备技术领域，具体涉及MOCVD反应器。该MOCVD反应器包含反应腔，该反应腔设中放置基板的衬底托盘可通过机械传动旋转，并且薄膜生长过程中，加热器与衬底间采用真空密封，从而完全隔绝，反应气体不可能与加热组件直接接触，从而简化了设计。同时采用基片更换机构，能够反应时完成后，运动到基片更换位置，使操作人员不用打开反应腔就能方便地交换基片。

主权项

一种衬底旋转并与加热器分隔的MOCVD反应器，包括MOCVD反应腔、加热组件、衬底托盘，其特征在于：所述的加热组件与衬底托盘密封相连，加热组件与衬底托盘一起相对于反应腔运动，其中衬底托盘通过外部机械传动而旋转，而加热组件保持不动，所述的加热组件与反应腔呈隔离状态。