发明名称 Resist Lower Layer Film and a Method for Forming a Pattern
摘要
申请公布号 KR100994899(B1) 申请公布日期 2010.11.16
申请号 KR20040037711 申请日期 2004.05.27
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/11;G03C1/76;G03F7/038;G03F7/095;G03F7/26;G03F7/36;G03F7/40;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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