| 主权项 |
一种用来使一有一气体压力之第一区与一有一气体压力之第二区互连的设备，其中该第一区之气体压力异于该第二区之气体压力，该设备包含：一互连该第一区和该第二区之气门，该气门包含一有一顶部外周部分和一底部外周部分之滚筒，该滚筒设置在一壳体内，一基片材料之带状物适于经此在该第一区与该第二区之间移动，该带状物与该滚筒之顶部外周部分保持接触以在该带状物与该壳体之间造成一顶部间隙；定位在该第一区内之至少一辊，该至少一第一区辊适于导引该带状物进入该顶部间隙；定位在该第二区内之至少一辊，该至少一第二区辊适于导引该带状物离开该顶部间隙；及用来排空该第一区和该第二区当中至少一区的至少一构件。如申请专利范围第1项之设备，该壳体有一顶板和一底板，其中该滚筒设置在该顶板与该底板之间。如申请专利范围第2项之设备，该顶板有一轮廓，其中该顶板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之顶部外周部分的弧。如申请专利范围第2项之设备，该底板有一轮廓，其中该底板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之底部外周部分的弧。如申请专利范围第2项之设备，该壳体有一介于该顶板与该底板间之第一侧壁及一介于该顶板与该底板间之第二侧壁，其中该滚筒设置在该第一侧壁与该第二侧壁之间以该第一侧壁与该第二侧壁间之一轴线为中心旋转。如申请专利范围第1项之设备，其中该滚筒与该带状基片材料接触之周向表面系由一低摩擦、低热传导率材料制成。如申请专利范围第1项之设备，其中该滚筒之周向表面系由一从下列物组成之群中选出的材料构成：铝，不锈钢，镀层钢，及矽化硼玻璃。如申请专利范围第1项之设备，其中该基片材料系由一从下列物组成之群中选出：聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚烯烃、聚酯、聚氯乙烯、聚碸、及纤维素物质。如申请专利范围第1项之设备，其中该第一区和该第二区当中一区经排空成一约0.001托(Torr)至约0.01托的压力。如申请专利范围第1项之设备，其中该至少一排空构件为至少一扩散泵。如申请专利范围第3项之设备，该顶板在所有点对该带状物皆为等距，其中该顶部间隙在该带状物与该顶板之间维持一均匀距离。如申请专利范围第2项之设备，该至少一第一区辊包含一第一区辊，其中该一第一区辊以一足以避免该带状物碰触该顶板之角度导引该带状物进入该间隙。如申请专利范围第2项之设备，该至少一第二区辊包含一第二区辊，其中该一第二区辊以一足以避免该带状物碰触该顶板之角度导引该带状物离开该间隙。如申请专利范围第2项之设备，该至少一第一区辊包含一第一组辊和一第二组辊，其中该带状物适于在该第一组的每一辊之间及该第二组的每一辊之间移动，其中该第一组和第二组之每一辊与该带状物保持足以使该带状物移入该间隙的充分接触，其中该第一组与该第二组之间之一带状物张力降低导致该带状物有一足以避免该带状物与该顶板接触的角度。如申请专利范围第14项之设备，该至少一第二区辊包含一第三组辊和一第四组辊，其中该带状物适于在该第三组的每一辊之间及该第四组的每一辊之间移动，其中该第三组和第四组之每一辊与该带状物保持足以使该带状物移出该间隙的充分接触，其中该第三组与该第四组之间之一带状物张力降低导致该带状物有一足以避免该带状物与该顶板接触的角度。如申请专利范围第2项之设备，该顶部间隙在该第一区与该第二区之间造成一顶部间隙漏气处，且一介于该滚筒之该底部外周部分与该底板之间的底部间隙在该第一区与该第二区之间造成一底部间隙漏气处，该气门之特征在于：每一间隙之一高度约为0.001英寸，该带状物之一宽度约为12英寸，该滚筒之一直径约为1英尺，且该毫托压力不超过0.4托，该排空构件之一气体负载约为200 SCCM，藉此提供该等漏气处之阻滞模式近音速流。一种用来使一带状基片材料从一环境大气区域持续地移入一真空室内之设备，该设备包含：一可排真空室；用来将该真空室排空成低于环境大气压力之构件；一互连该环境大气区域和该真空室之气门，该气门包含一有一顶部外周部分之滚筒，该滚筒设置在一壳体内，一带状基片材料适于经此在该环境大气区域与该真空室之间移动，该带状物与该滚筒之顶部外周部分保持接触以在该带状物与该壳体之间造成一间隙；一定位在该环境大气区域内之第一辊，该第一辊适于导引该带状物进入该间隙；及一定位在该真空室内之第二辊，该第二辊适于导引该带状物离开该间隙。如申请专利范围第17项之设备，该壳体有一顶板和一底板，其中该滚筒设置在该顶板与该底板之间。如申请专利范围第18项之设备，该顶板有一轮廓，其中该顶板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之顶部外周部分的弧。如申请专利范围第18项之设备，该底板有一轮廓，其中该底板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之底部外周部分的弧。如申请专利范围第18项之设备，该壳体有一介于该顶板与该底板间之第一侧壁及一介于该顶板与该底板间之第二侧壁，其中该滚筒设置在该第一侧壁与该第二侧壁之间以该第一侧壁与该第二侧壁间之一轴线为中心旋转。如申请专利范围第17项之设备，其中该滚筒与该带状基片材料接触之周向表面系由一低摩擦、低热传导率材料制成。如申请专利范围第17项之设备，其中该滚筒之周向表面系由一从下列物组成之群中选出的材料构成：铝，不锈钢，镀层钢，及矽化硼玻璃。如申请专利范围第23项之设备，其中该基片材料系由一从下列物组成之群中选出：聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚烯烃、聚酯、聚氯乙烯、聚碸、及纤维素物质。如申请专利范围第17项之设备，其中该排空构件将该真空室排空成一约0.001托至约0.01托的压力。如申请专利范围第17项之设备，其中用来排空该真空室之该排空构件为一扩散泵。如申请专利范围第19项之设备，该顶板在所有点对该带状物皆为等距，其中该间隙在该带状物与该顶板之间维持一均匀距离。如申请专利范围第17项之设备，其中该第一辊以一足以避免该带状物碰触该顶板之角度导引该带状物进入该间隙。如申请专利范围第17项之设备，其中该第二辊以一足以避免该带状物碰触该顶板之角度导引该带状物离开该间隙。一种用来使一带状基片材料从一环境大气区域持续地移入一真空室内之设备，该设备包含：一可排真空室；用来将该真空室排空成低于环境大气的压力之构件；一互连该环境大气区域和该真空室之气门，该气门包含一有一顶部外周部分之滚筒，该滚筒设置在一壳体内，一带状基片材料适于经此在该环境大气区域与该真空室之间移动，该带状物与该滚筒之顶部外周部分保持接触以在该带状物与该壳体之间造成一间隙；一第一组辊和一第二组辊，其中该带状物适于在该第一组的每一辊之间及该第二组的每一辊之间移动，其中该第一组和第二组之每一辊与该带状物保持足以使该带状物移入该间隙的充分接触，其中该第一组与该第二组之间之一带状物张力降低导致该带状物有一足以避免该带状物与该壳体接触的导入角度；及一第三组辊和一第四组辊，其中该带状物适于在该第三组的每一辊之间及该第四组的每一辊之间移动，其中该第三组和第四组之每一辊与该带状物保持足以使该带状物移出该间隙的充分接触，其中该第三组与该第四组之间之一带状物张力降低导致该带状物有一足以避免该带状物与该壳体接触的离去角度。如申请专利范围第30项之设备，该壳体有一顶板和一底板，其中该滚筒设置在该顶板与该底板之间。如申请专利范围第31项之设备，该顶板有一轮廓，其中该顶板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之顶部外周部分的弧。如申请专利范围第31项之设备，该底板有一轮廓，其中该底板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之底部外周部分的弧。如申请专利范围第31项之设备，该壳体有一介于该顶板与该底板间之第一侧壁及一介于该顶板与该底板间之第二侧壁，其中该滚筒设置在该第一侧壁与该第二侧壁之间以该第一侧壁与该第二侧壁间之一轴线为中心旋转。如申请专利范围第30项之设备，其中该滚筒与该带状基片材料接触之周向表面系由一低摩擦、低热传导率材料制成。如申请专利范围第30项之设备，其中该滚筒之周向表面系由一从下列物组成之群中选出的材料构成：铝，不锈钢，镀层钢，及矽化硼玻璃。如申请专利范围第30项之设备，其中该基片材料系由一从下列物组成之群中选出：聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚烯烃、聚酯、聚氯乙烯、聚碸、及纤维素物质。如申请专利范围第30项之设备，其中该排空构件将该真空室排空成一约0.001托至约0.01托的压力。如申请专利范围第30项之设备，其中用来排空该真空室之该排空构件为一扩散泵。如申请专利范围第31项之设备，该顶板在所有点对该带状物皆为等距，其中该间隙在该带状物与该顶板之间维持一均匀距离。如申请专利范围第1项之设备，其中该滚筒之末端经由一环状端封件防漏。如申请专利范围第41项之设备，其中每一端封件包含一对相隔的O环。如申请专利范围第42项之设备，其中提供一泵用以排空每一O环间之空间。一种用来使一有一气体压力之第一区与一有一气体压力之第二区互连的设备，其中该第一区之气体压力异于该第二区之气体压力，该设备包含：一互连该第一区和该第二区之气门，该气门包含一有一顶部外周部分和一底部外周部分之滚筒，该滚筒设置在一壳体内，一带状基片材料适于经此在该第一区与该第二区之间移动，该带状物与该滚筒之底部外周部分保持接触以在该带状物与该壳体之间造成一底部间隙；定位在该第一区内之至少一辊，该至少一第一区辊适于导引该带状物进入该底部间隙；定位在该第二区内之至少一辊，该至少一第二区辊适于导引该带状物离开该底部间隙；及用来排空该第一区和该第二区当中至少一区的至少一构件。如申请专利范围第44项之设备，该壳体有一顶板和一底板，其中该滚筒设置在该顶板与该底板之间。如申请专利范围第45项之设备，该顶板有一轮廓，其中该顶板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之顶部外周部分的弧。如申请专利范围第45项之设备，该底板有一轮廓，其中该底板轮廓经造型为大致等同于该滚筒之底部外周部分的弧。如申请专利范围第45项之设备，该壳体有一介于该顶板与该底板间之第一侧壁及一介于该顶板与该底板间之第二侧壁，其中该滚筒设置在该第一侧壁与该第二侧壁之间以该第一侧壁与该第二侧壁间之一轴线为中心旋转。如申请专利范围第44项之设备，其中该滚筒与该带状基片材料接触之周向表面系由一低摩擦、低热传导率材料制成。如申请专利范围第44项之设备，其中该滚筒之周向表面系由一从下列物组成之群中选出的材料构成：铝，不锈钢，镀层钢，及矽化硼玻璃。如申请专利范围第44项之设备，其中该基片材料系由一从下列物组成之群中选出：聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚烯烃、聚酯、聚氯乙烯、聚碸、及纤维素物质。如申请专利范围第44项之设备，其中该至少一排空构件将该过渡室排空成一约0.001托至约0.01托的压力。如申请专利范围第44项之设备，其中用来排空该过渡室之该至少一排空构件为一扩散泵。如申请专利范围第46项之设备，该顶板在所有点对该带状物皆为等距，其中该顶部间隙在该带状物与该顶板之间维持一均匀距离。如申请专利范围第45项之设备，该至少一第一区辊包含一第一区辊，其中该一第一区辊以一足以避免该带状物碰触该底板之角度导引该带状物进入该间隙。如申请专利范围第45项之设备，该至少一第二区辊包含一第二区辊，其中该一第二区辊以一足以避免该带状物碰触该底板之角度导引该带状物离开该间隙。如申请专利范围第45项之设备，该至少一第一区辊包含一第一组辊和一第二组辊，其中该带状物适于在该第一组的每一辊之间及该第二组的每一辊之间移动，其中该第一组和第二组之每一辊与该带状物保持足以使该带状物移入该底部间隙的充分接触，其中该第一组与该第二组之间之一带状物张力降低导致该带状物有一足以避免该带状物与该底板接触的角度。如申请专利范围第45项之设备，该至少一第二区辊包含一第三组辊和一第四组辊，其中该带状物适于在该第三组的每一辊之间及该第四组的每一辊之间移动，其中该第三组和第四组之每一辊与该带状物保持足以使该带状物移出该底部间隙的充分接触，其中该第三组与该第四组之间之一带状物张力降低导致该带状物有一足以避免该带状物与该底板接触的角度。如申请专利范围第45项之设备，该底部间隙在该第一区与该第二区之间造成一底部间隙漏气处，且一介于该滚筒之该顶部外周部分与该顶板之间的顶部间隙在该第一区与该第二区之间造成一顶部间隙漏气处，该气门之特征在于：每一间隙之一高度约为0.001英寸，该带状物之一宽度约为12英寸，该滚筒之一直径约为1英尺，且该毫托压力不超过0.4托，该排空构件之一气体负载约为200 SCCM，藉此提供该等漏气处之阻滞模式近音速流。如申请专利范围第48项之设备，其更包含一设置在该第一侧壁与该滚筒之间的第一O环，该第一O环适于减少来自该第一侧壁与该滚筒间之一空间的一空气进入量，且该设备更包含一设置在该第二侧壁与该滚筒之间的第二O环，该第二O环适于减少来自该第二侧壁与该滚筒间之一空间的一空气进入量。如申请专利范围第60项之设备，该第一O环包含一适于接收一第一压力之第一C形O环，该第一压力将该第一C形O环压抵于该滚筒，该第二O环包含一适于接收一第二压力之第二C形O环，该第二压力将该第二C形O环压抵于该滚筒。如申请专利范围第61项之设备，该第一压力包含设置在该第一侧壁与该第一O环间之至少一第一弹簧，该第二压力包含设置在该第二侧壁与该第二O环间之至少一第二弹簧。如申请专利范围第5项之设备，其更包含一设置在该第一侧壁与该滚筒之间的第一O环，该第一O环适于减少来自该第一侧壁与该滚筒间之一空间的一空气进入量，且该设备更包含一设置在该第二侧壁与该滚筒之间的第二O环，该第二O环适于减少来自该第二侧壁与该滚筒间之一空间的一空气进入量。如申请专利范围第63项之设备，该第一O环包含一适于接收一第一压力之第一C形O环，该第一压力将该第一C形O环压抵于该滚筒，该第二O环包含一适于接收一第二压力之第二C形O环，该第二压力将该第二C形O环压抵于该滚筒。如申请专利范围第64项之设备，该第一压力包含设置在该第一侧壁与该第一O环间之至少一第一弹簧，该第二压力包含设置在该第二侧壁与该第二O环间之至少一第二弹簧。 |
