发明名称 阿达玛变换干涉光谱成像方法及设备
摘要 一种阿达玛变换干涉光谱成像方法,该方法包括以下步骤(1)成像于阿达玛模板表面上;(2)限制参与阿达玛变换编码的视场范围和过滤杂散光;(3)在垂直于光轴的方向上剪切成两个虚阿达玛模板,与阿达玛模板平行并且宽度方向一致;(4)产生干涉,与剪切方向垂直,(5)将干涉图信号进行送入计算机处理系统中;(6)阿达玛模板变换n次后,完成编码;(7)进行傅里叶变换,得到n幅目标经阿达玛模板编码后的光谱图像,解码后最终得到目标的两维空间信息和一维光谱信息,完成成像。本发明不受阿达玛模板尺寸限制,形成系统结构简单。
申请公布号 CN101526400B 申请公布日期 2010.11.03
申请号 CN200810210069.1 申请日期 2008.08.21
申请人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明人 周锦松;相里斌
分类号 G01J3/45(2006.01)I 主分类号 G01J3/45(2006.01)I
代理机构 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人 康凯
主权项 一种阿达玛变换干涉光谱成像方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)前置光学成像系统(1)将目标成像于具有n个码元的阿达玛模板(3)表面上;(2)紧贴着阿达玛模板(3)设置一光阑(2)限制参与阿达玛变换编码的视场范围和过滤杂散光;(3)经阿达玛模板(3)编码后的目标像进入横向剪切干涉仪(4),阿达玛模板(3)在垂直于光轴的方向上被横向剪切干涉仪(4)剪切成两个虚阿达玛模板,与阿达玛模板(3)平行并且宽度方向一致;(4)两个虚阿达玛模板经傅氏镜(5)和柱面镜(6),在探测器(7)上产生干涉,干涉条纹方向与剪切方向垂直,干涉光程差与剪切量和探测器的有效尺寸成正比,与傅氏镜(5)的焦距成反比,阿达玛模板(3)位于傅氏镜(5)的前焦面,探测器(7)位于傅氏镜(5)和柱面镜(6)的后焦面;(5)将探测器(7)输出的干涉图信号进行数字化后送入计算机处理系统(8)中;(6)阿达玛模板(3)变换一次编码,探测器(7)采集一次干涉图信号,阿达玛模板(3)变换n次后,完成编码;(7)n次采集得到的干涉图信号分别进行傅里叶变换,得到n幅目标经阿达玛模板编码后的光谱图像,这些图像经快速阿达玛变换解码后最终得到目标的两维空间信息和一维光谱信息,完成成像;所述步骤(1)、(6)、(7)中的n均为n=2m-1,其中m=2,3,…。
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