| 发明名称 | 宽带高效率熔融石英透射偏振相关光栅 | ||
| 摘要 | 一种800纳米波段的宽带高效率熔融石英透射偏振相关光栅，光栅的占空比为0.5，对于TE偏振光该光栅的周期为680～720纳米、刻蚀深度为1150～1250纳米；对于TM偏振光该光栅的周期为870～890纳米、刻蚀深度为1570～1630纳米。本发明宽带高效率熔融石英透射光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，工艺成熟，造价小，能大批量生产，具有重要的实用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN101666885B | 申请公布日期 | 2010.11.03 |
| 申请号 | CN200910054512.5 | 申请日期 | 2009.07.08 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 周常河;吕鹏;冯吉军;贾伟 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 一种用于800纳米波段的宽带高效率熔融石英透射偏振相关光栅，光栅的占空比为0.5，其特征在于：对TE偏振光，光栅周期为680～720纳米，刻蚀深度为1150～1250纳米；对TM偏振光，光栅周期为870～890纳米，刻蚀深度为1570～1630纳米。 | ||
| 地址 | 201800 上海市800-211邮政信箱 | ||