发明名称 |
一种梳状源极叠层结构有机场效应管 |
摘要 |
本发明提出了一种具有梳状源极层叠结构有机场效应管。通过控制有机半导体层的薄膜厚度来控制沟道长度,从而达到缩小沟道长度,减小器件尺寸的目的。即根据不同的器件结构(如顶栅底接触型、底栅底接触型等),先后在衬底(硅或其他柔性衬底)上制备梳状源极薄膜、有机半导体沟道薄膜,以及条状漏极薄膜,其主要特点在于源极、有机导电沟道、漏极三者为层叠结构。通过精确控制有机层的厚度来控制沟道长度,栅极电压透过源极空隙对沟道中载流子的运动进行控制,从而达到制备高性能薄膜场效应晶体管的目的。 |
申请公布号 |
CN101877385A |
申请公布日期 |
2010.11.03 |
申请号 |
CN201010162153.8 |
申请日期 |
2010.04.04 |
申请人 |
兰州大学 |
发明人 |
彭应全 |
分类号 |
H01L51/05(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/05(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种梳状源极层叠结构有机场效应管,其特征在于栅极、栅介质、源极、沟道呈层叠结构,通过精确控制有机层的厚度来控制沟道长度,栅极电压透过源极空隙对沟道中载流子的运动进行控制,制备高性能薄膜场效应管。 |
地址 |
730000 甘肃省兰州市天水南路222号 |