| 发明名称 | 晶片处理用加热器 | ||
| 摘要 | 1.名称：晶片处理用加热器。2.用途：本产品用于在使用等离子体对晶片进行处理时对晶片进行加热。3.设计要点：本外观设计的设计要点在于形状。4.指定图片：立体图。5.本产品的石英部件是透明的，因此从外面能够看到收容于内部的加热元件。参考图1和参考图2中用斜线表示透明部分。 | ||
| 申请公布号 | CN301376275S | 申请公布日期 | 2010.11.03 |
| 申请号 | CN200930389503.2 | 申请日期 | 2009.12.28 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 田中澄;小松智仁;川崎裕雄 |
| 分类号 | 23-03 | 主分类号 | 23-03 |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本东京 | ||