| 发明名称 | 等离子处理装置和等离子处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子处理装置和等离子处理方法，该等离子处理装置包括：筒体状的处理容器，其能够被抽真空；保持部件，其用于保持多个被处理体并插入到上述处理容器内或从上述处理容器内取出；气体供给部件，其用于向上述处理容器内供给气体；活化部件，其沿着上述处理容器的长度方向设置，利用由高频电力产生的等离子体对上述气体进行活化，该等离子处理装置用于对上述被处理体实施等离子处理，其中，该等离子处理装置包括：筒体状的屏蔽壳体，其为了遮断高频而以包围上述处理容器的周围的方式设置且接地；冷却机构，其在上述等离子处理过程中用于使冷却气体沿着上述屏蔽壳体与上述处理容器之间的空间部流动。 | ||
| 申请公布号 | CN101877304A | 申请公布日期 | 2010.11.03 |
| 申请号 | CN201010160866.0 | 申请日期 | 2010.04.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 小野寺直见;乡右近清彦;佐藤润 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/452(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种等离子处理装置，其包括：筒体状的处理容器，其能够被抽真空；保持部件，其用于保持多个被处理体并插入到上述处理容器内或从上述处理容器内取出；气体供给部件，其用于向上述处理容器内供给气体；活化部件，其沿着上述处理容器的长度方向设置，利用由高频电力产生的等离子体对上述气体进行活化，该等离子处理装置用于对上述被处理体实施等离子处理，其特征在于，其包括：筒体状的屏蔽壳体，其为了遮断高频而以包围上述处理容器的周围的方式设置且接地；冷却机构，其在上述等离子处理过程中用于使冷却气体沿着上述屏蔽壳体与上述处理容器之间的空间部流动。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||