| 发明名称 | 抛光组合物和抛光方法 | ||
| 摘要 | 本发明的抛光组合物含有二氧化硅、酸和水。二氧化硅是例如胶体二氧化硅、热解法二氧化硅或沉淀法二氧化硅。酸是例如盐酸，磷酸，硫酸，膦酸，硝酸，亚磷酸，硼酸，乙酸，衣康酸，丁二酸，酒石酸，柠檬酸，马来酸，乙醇酸，丙二酸，甲基磺酸，甲酸，苹果酸，葡萄糖酸，丙胺酸，甘氨酸，乳酸，羟基亚乙基二磷酸，氮基三(亚甲基磷酸)，或磷酰基丁烷三羧酸。该抛光组合物的pH值优选在0.5～6范围内。该抛光组合物非常适用于抛光玻璃基片。 | ||
| 申请公布号 | CN1626599B | 申请公布日期 | 2010.11.03 |
| 申请号 | CN200410092531.4 | 申请日期 | 2004.11.04 |
| 申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 大桥圭吾;大胁寿树 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;B24B9/10(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
| 主权项 | 一种抛光玻璃基片的方法，其特征在于，所述方法包括：制备包含3～30质量％二氧化硅、0.3～5质量％酸、和水的抛光组合物，其中所述酸为亚磷酸、硼酸、羟基亚乙基二磷酸、氮基三(亚甲基磷酸)、或磷酰基丁烷三羧酸；以及使用所制备的抛光组合物抛光玻璃基片表面。 | ||
| 地址 | 日本国爱知县 | ||