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发明名称 Fabrication method of semiconductor device capable of compensating sloped side wall of opening
摘要
申请公布号 KR100991380(B1) 申请公布日期 2010.11.03
申请号 KR20030093945 申请日期 2003.12.19
申请人 发明人
分类号 H01L27/108 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人
主权项
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