| 发明名称 | 用于产生磁场的装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于在磁共振断层造影设备中产生磁场的装置(1)，其具有用于产生基本磁场的装置(2)、环绕该基本磁场装置(2)的真空容器(4)和用于产生至少一个磁梯度场的装置(8)，其中，该装置(1)在基本磁场装置(2)的至少一个超导线圈的线匝与该真空容器(4)的非导体壁之间的区域内的体积具有降低的磁场强度，在该体积中至少部分地容纳超导构成的梯度场装置(8)。 | ||
| 申请公布号 | CN101063708B | 申请公布日期 | 2010.11.03 |
| 申请号 | CN200610064429.2 | 申请日期 | 2006.09.19 |
| 申请人 | 西门子公司 | 发明人 | 拉尔夫·基姆林根;安德烈亚斯·克鲁格 |
| 分类号 | G01R33/3815(2006.01)I | 主分类号 | G01R33/3815(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邵亚丽;李晓舒 |
| 主权项 | 一种用于在磁共振断层造影设备中产生磁场的装置，其具有用于产生基本磁场的装置、环绕该基本磁场装置的真空容器和用于产生至少一个磁梯度场的装置，其特征在于，该装置(1)在基本磁场装置(2)的至少一个超导线圈的线匝与该真空容器(4)的非导体壁之间的区域内的体积具有降低的磁场强度，在该体积中至少部分地容纳超导构成的梯度场装置(8)。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||