正型光阻组成物及光阻图型之形成方法,申请号TW095132938-传众专利搜索

发明名称	正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要
申请公布号	TWI332602	申请公布日期	2010.11.01
申请号	TW095132938	申请日期	2006.09.06
申请人	东京应化工业股份有限公司	发明人	中川裕介;秀坂慎一;山崎晃义;大久保和喜;入江真树子;岸本由纪子
分类号	G03F7/039	主分类号	G03F7/039
代理机构		代理人	林志刚台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项	一种正型光阻组成物，其为含有基于酸之作用而增大硷可溶性之树脂成份(A)，与经由曝光产生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物，其特征为，前述酸产生剂成份(B)为含有下述通式(B-1)所示之肟磺酸酯系酸产生剂(B1)，与鎓盐系酸产生剂(B2)，又，前述肟磺酸酯系酸产生剂(B1)与前述鎓盐系酸产生剂(B2)之混合比(质量比)为7:3至3:7之范围内，@sIMGTIF!d10041.TIF@eIMG!
地址	日本