发明名称 高功率辐射用分光器
摘要
申请公布号 TWI332582 申请公布日期 2010.11.01
申请号 TW094106780 申请日期 2005.03.07
申请人 乌翠泰克股份有限公司 发明人 兰达 伊格尔
分类号 G02B5/00 主分类号 G02B5/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种可供使用于高功率辐射束的分光装置,包含:一导热框,其具有一伸长中孔;及一窗片,其固设在该中孔内,而能将热由该窗片传导至该框,其中该窗片包括一钻石基材。如申请专利范围第1项之分光装置,其中该窗片包括于该钻石基材上形成之一涂层。如申请专利范围第2项之分光装置,其中该涂层系适于反射该高功率辐射束之一所择部份。如申请专利范围第1项之分光装置,其中该框包括于该框内形成之一冷却导管,且该装置更包括一冷却系统,其可操作地耦接到该冷却导管,而使一冷却流体流经该冷却导管。如申请专利范围第1项之分光装置,其中该框系被附设于一底板上。如申请专利范围第1项之分光装置,其中该高功率辐射束具有第一和第二偏振分量,且其中该窗片包括一涂层,其适于反射该第一偏振分量而传递该第二偏振分量。如申请专利范围第1项之分光装置,其中该框包括:一扣持沟,其会绕该中孔延伸;一O形环,其被套设在该扣持沟内;及其中该窗片包括一周缘,且其中该等扣持沟和O形环操作来在该窗片之该周缘处或其附近对该窗加压于该框。如申请专利范围第1项之分光装置,其中该框系由铜所制成。如申请专利范围第8项之分光装置,其中该铜框会被覆设一层金。如申请专利范围第1项之分光装置,其中该框包含第一和第二框件。一种以高功率偏振辐射束照射第一基材的光学系统,包含:一辐射源,其适于沿一光轴发出一高功率辐射束;一偏振化分光装置,其沿该光轴设置在该辐射源的下游处,并在针对该分光的布鲁斯特角定向以接收该高功率辐射束,并从其形成具有一所择偏振光的一反射高功率辐射束,该偏振化分光装置包含:一导热框,其具有一伸长中孔;一窗片,其固设在该中孔内,而能由该窗片将热传导至该框;且其中该窗片包含一钻石基材,及一形成于该钻石基材上之分光膜;以及一透镜,其被设置成可接收该反射高功率辐射束,并将其导至该第一基材上。一种分光装置,包含:一导热框,其具有一伸长中孔;一窗片平坦表面与一周缘,并包含一钻石基材;一涂层,其形成于该平坦表面上;及其中该窗片系在其位于或靠近周缘部份,藉由该框固设在该伸长中孔内,而使由该窗片从入射其上之一高功率辐射束所吸收的热可传导至该框,以防止该窗片平坦表面实质上扭曲变形。如申请专利范围第12项之分光装置,其中该涂层包含一或多层选自下列组群之材料所制成的薄膜,该群组材料包含:ThF4、Ge、ZeSe、及BaF2。如申请专利范围第12项之分光装置,其中该框包括一冷却导管,其适于使一冷却流体流过以冷却该框。一种自高功率偏振化辐射束分离第一和第二偏振光分量的方法,包含:在一布鲁斯特角将该高功率辐射束导至一第一偏振化分光器,该第一偏振化分化器包含具有一伸长中孔之一导热框、及热接触地固设在该框的该中孔内之一第一窗片,该第一窗片包括形成于一钻石基材上之一第一涂层;从该第一窗片反射该第一偏振光分量,以形成一第一偏振化辐射束,并将该第二偏振光分量传递穿过该第一窗片以形成一第二辐射束,同时该第一窗片会吸收一部份的高功率辐射束作为热;及藉着将该热传至该框并冷却该框而从该第一窗片除去热,俾使该第一窗片保持实质上不会扭曲变形。如申请专利范围第15项之方法,更包括将该等第一及第二偏振化辐射束中之一者导至一第二偏振化分光器,以加强该一种偏振化辐射束的偏振化。一种自高功率偏振化辐射束分离第一和第二偏振光分量的方法,包含:将一入射辐射束导至一被热接触地固设在一框的一伸长中孔内的窗片上,该窗片包括一钻石基材,该入射辐射束系以针对该窗片之一布鲁斯特角入射到该窗片;从该窗片反射一部份的该入射辐射束以形成一第一辐射束;将一部份的该入射辐射束传递穿过该窗片以形成一第二辐射束,同时该第一窗片会吸收一部份的该入射辐射束作为热;及藉由将该热传至该框并冷却该框来从该窗片除去热,以使该第一窗片实质上保持不扭曲变形。如申请专利范围第17项之方法,其中包括提供一涂层给该窗片,其中该涂层系用于提供该入射辐射束之选定数量的反射和透射作用。如申请专利范围第18项之方法,其中该涂层系被形成为一偏振化涂层。一种用以供照射工件的光学系统,包含:一辐射源,其适于发射一高功率辐射束;一分光装置,其被设成可接收该高功率辐射束,并由之形成一传递的高功率辐射束,其中该分光装置包括:一导热框,其具有一伸长中孔;一窗件固设在该伸长中孔内,而能与该框热接触,其中该窗件包含一钻石基材;及一透镜,其被设置来接收该传递辐射束或反射辐射束中之一者,并将之导至该工件上。如申请专利范围第20项之系统,其中该高功率辐射束包括第一和第二偏振分量,且其中该窗片包括覆设在该钻石基材上之一分光涂层,使得该反射辐射束主要包括该第一偏振分量,而该传递辐射束主要包括该第二偏振分量。如申请专利范围第20项之系统,其中该传递辐射束系经P偏振化,且其中该透镜会以一个等于或近似布鲁斯特角的入射角来将该传递辐射导至该工件上。
地址 美国