| 主权项 |
一种用于一背光模组中之反射罩，该背光模组具有一光源以及一导光板，该导光板具有一入光面及与该入光面实质上垂直之一出光面，该光源所发射之一第一部份光线，适可经由该导光板之入光面接收后，经该导光板之一内部，朝该导光板之出光面将该光线射出，该反射罩包含：一本体，界定一容置空间，以容纳该光源，该本体具有一第一端部区域及一第二端部区域，该第一端部区域及该第二端部区域界定出一开口，该导光板之入光面，系透过该开口，实质上面对该光源，其中，该第一端部区域系邻近该出光面，该第二端部区域系远离该出光面；以及一微型凸起结构，设于该第一端部区域，并朝向该第二端部区域，俾将自该光源发射之一第二部分光线，经由该微型凸起结构，漫射至该导光板中。如请求项1所述之反射罩，其中该微型凸起结构系一冲压结构。如请求项2所述之反射罩，其中该微型凸起结构包含复数凸起，其具有非均匀之尺寸。如请求项3所述之反射罩，其中该复数凸起，系不规则排列。如请求项3所述之反射罩，其中该复数凸起，系以一矩阵形式规则排列。如请求项5所述之反射罩，其中该复数凸起之尺寸，系以一远离该光源之方向递减。如请求项5所述之反射罩，其中该复数凸起之尺寸，系以一远离该光源之方向呈线性递减。如请求项2所述之反射罩，其中该微型凸起结构包含复数凸起，其间具有非均匀之排列密度。如请求项8所述之反射罩，其中该复数凸起之排列密度，系以一远离该光源之方向递减。如请求项9所述之反射罩，其中该复数凸起之排列密度，系以一远离该光源之方向呈线性递减。如请求项1所述之反射罩，其中该第一端部区域之至少一部份，系覆盖于该导光板之出光面之一部分。如请求项3所述之反射罩，其中该复数凸起，包含复数圆形凸起。如请求项3所述之反射罩，其中该复数凸起，包含复数尖形凸起。如请求项3所述之反射罩，其中该复数凸起，包含复数多角形凸起。如请求项1-14中任一项所述之反射罩，其中该本体具有一内表面，该微型凸起结构系自该第一端部区域，沿该本体之至少一部份，延伸设置于该内表面上。如请求项11所述之反射罩，其中该微型凸起结构系自该第一端部区域，完全延伸设置于该内表面上。一种制造用于一背光模组中之反射罩之方法，其中该背光模组具有一光源以及一导光板，该导光板具有一入光面及与该入光面实质上垂直之一出光面，该光源所发射之一第一部份光线，适可经由该导光板之入光面接收后，经该导光板之一内部，朝该导光板之出光面将该光线射出，该方法包含下列步骤：形成一第一端部区域及相对之一第二端部区域，以构成一开口，俾该导光板之入光面，系透过该开口，实质上面对该光源；以及以一冲压方式，于该第一端部区域，面向该第二端部区域之一表面，形成一微型凸起结构，俾将自该光源投射之一第二部分光线，经由该微型凸起结构，漫射至该导光板中。如请求项17所述之方法，其中该形成一微型凸起结构之步骤，系以一冲压方式，自该第一端部区域，延伸设置于该本体之一内表面之至少一部份上。如请求项18所述之方法，其中该形成一微型凸起结构之步骤，系以一冲压方式，自该第一端部区域，完全延伸设置于该本体之一内表面上。 |
