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发明名称 GEïNTEGREERDE OPTISCHE METROLOGIE EN LITHOGRAFISCHE PROCESLIJN VOOR DYNAMISCHE KRITIEKE DIMENSIEREGELING.
摘要
申请公布号 NL2000045(C) 申请公布日期 2010.10.28
申请号 NL20062000045 申请日期 2006.03.31
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD., 发明人 KE, CHIH-MING;YU, SHINN-SHENG;WANG, YU-HSI;GAU, TSAI-SHENG;HUANG, JACKY
分类号 G03F7/38;H01L21/00 主分类号 G03F7/38
代理机构 代理人
主权项
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