发明名称 |
一种大功率高电流密度整流二极管芯片及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种大功率高电流密度整流二极管芯片及其制造方法,属于半导体器件制造技术领域。本发明的芯片由硼区、N型区和浓磷区组成,硼区的厚度为50-60μm,浓磷区的厚度为10-12μm,芯片总厚度为180-200μm。其制造方法,首先采用乳胶磷源扩散方法在N型硅片的两个表面扩散磷,使每个浓磷区厚度为10-12μm,然后将两个浓磷区中的一个磨去,在磨去了浓磷区的表面扩散硼,使硼区的厚度为50-60μm。本发明方法制备的芯片,浓度分布可以阻挡空间电荷区的扩展,减薄N区厚度,降低了管压降,并且减小硅片厚度,大大提高电流密度(高达500A/cm2)从而节省了原材料、减少了二极管在使用中所占的空间。 |
申请公布号 |
CN101872789A |
申请公布日期 |
2010.10.27 |
申请号 |
CN201010185198.7 |
申请日期 |
2010.05.28 |
申请人 |
金小玲 |
发明人 |
金小玲 |
分类号 |
H01L29/861(2006.01)I;H01L29/36(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/861(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
罗文群 |
主权项 |
一种大功率高电流密度整流二极管芯片,其特征在于该芯片由硼区、N型区和浓磷区组成,所述的硼区、N型区和浓磷区依次排列,其中所述的硼区的厚度为50-60μm,所述的浓磷区的厚度为10-12μm,芯片总厚度为180-200μm。 |
地址 |
321400 浙江省缙云工业园区新中路15号 |