发明名称 一种大功率高电流密度整流二极管芯片及其制造方法
摘要 本发明涉及一种大功率高电流密度整流二极管芯片及其制造方法,属于半导体器件制造技术领域。本发明的芯片由硼区、N型区和浓磷区组成,硼区的厚度为50-60μm,浓磷区的厚度为10-12μm,芯片总厚度为180-200μm。其制造方法,首先采用乳胶磷源扩散方法在N型硅片的两个表面扩散磷,使每个浓磷区厚度为10-12μm,然后将两个浓磷区中的一个磨去,在磨去了浓磷区的表面扩散硼,使硼区的厚度为50-60μm。本发明方法制备的芯片,浓度分布可以阻挡空间电荷区的扩展,减薄N区厚度,降低了管压降,并且减小硅片厚度,大大提高电流密度(高达500A/cm2)从而节省了原材料、减少了二极管在使用中所占的空间。
申请公布号 CN101872789A 申请公布日期 2010.10.27
申请号 CN201010185198.7 申请日期 2010.05.28
申请人 金小玲 发明人 金小玲
分类号 H01L29/861(2006.01)I;H01L29/36(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 主分类号 H01L29/861(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 罗文群
主权项 一种大功率高电流密度整流二极管芯片,其特征在于该芯片由硼区、N型区和浓磷区组成,所述的硼区、N型区和浓磷区依次排列,其中所述的硼区的厚度为50-60μm,所述的浓磷区的厚度为10-12μm,芯片总厚度为180-200μm。
地址 321400 浙江省缙云工业园区新中路15号