发明名称 |
采用可烧蚀的对辐射敏感的材料的结构化表面 |
摘要 |
用本发明的方法形成了一种结构化表面。制备这种结构化表面的方法包括以下步骤:将可烧蚀的对辐射敏感的涂料涂布到基体主表面上,再将可烧蚀的对辐射敏感的涂层暴露于辐射,以便可烧蚀的对辐射敏感的涂层的暴露部分从基体上烧蚀,形成结构化表面。从而,结构化表面包含基体和由至少一个分隔堤构架成的结构图案。该方法还可以包括使可流动材料沉积到所述结构上和分隔堤上,以在结构中形成可流动材料的图案的步骤。 |
申请公布号 |
CN101019474B |
申请公布日期 |
2010.10.27 |
申请号 |
CN200580030800.7 |
申请日期 |
2005.09.09 |
申请人 |
伊斯曼柯达公司 |
发明人 |
M·Z·阿利;E·A·富伦卡姆;R·R·小奥尔曼;G·L·齐沃德洛 |
分类号 |
H05K3/00(2006.01)I;B44C1/22(2006.01)I;H05K1/00(2006.01)I;B41M1/04(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
刘冬;段晓玲 |
主权项 |
一种在基体上形成结构化表面的方法,所述方法包括以下步骤:(a)将可烧蚀的对辐射敏感的涂料涂布到所述基体的主表面上;和(b)将所述可烧蚀的对辐射敏感的涂料以一定图案暴露于辐射,从而使所述可烧蚀的对辐射敏感的涂层的暴露部分烧蚀,在所述基体上形成由至少一个分隔堤构架成的结构,其中所述至少一个分隔堤能使可流动材料容纳于所述结构中。 |
地址 |
美国纽约州 |