发明名称 |
由氧化物层粘附的多层涂层的受控气相沉积 |
摘要 |
本发明描述了用于在衬底上施加多层膜/涂层的改进的气相沉积方法和装置。该方法用来沉积多层涂层,其中作为衬底的化学组成的函数来控制与衬底直接接触的基于氧化物的层的厚度,从而使随后沉积的层更好的键合到基于氧化物的层。该改进的方法用来沉积这样的多层涂层,在该多层涂层中,基于氧化物的层直接沉积在衬底上,而基于有机物的层直接沉积在基于氧化物的层上。一般来说,施加一连串基于氧化物的层和基于有机物的层的交错层。 |
申请公布号 |
CN1878888B |
申请公布日期 |
2010.10.27 |
申请号 |
CN200580000427.0 |
申请日期 |
2005.05.24 |
申请人 |
应用微型构造公司 |
发明人 |
博里斯·科布兰;杰弗里·D·晴恩;罗马尔德·诺瓦客;理查德·C·伊 |
分类号 |
C23C16/40(2006.01)I;H01L21/316(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/40(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 |
代理人 |
肖善强 |
主权项 |
一种在衬底上沉积多层涂层的方法,该涂层被设计来提供特定的特性性能,其中所述多层涂层的所有层由气相来沉积,并且所述多层涂层包括至少一个基于氧化物的层和至少一个基于有机物的层,其中,所述气相沉积在形成所述多层涂层的至少一层或至少一层中的一部分期间采用了反应基团的停滞源,并且随着层沉积的继续所述反应基团的停滞源被耗尽。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |