发明名称 液体处理装置
摘要 一种液体处理装置,包括:基板保持部,水平地保持基板,并能够与基板一同旋转;旋转杯,围绕被基板保持部保持的基板,能够与基板一同旋转;旋转机构,使旋转杯以及基板保持部一体旋转;液体供给机构,至少对基板的表面供给处理液;排气/排液部,从旋转杯向外部进行排气以及排液;和导向部件,按照表面与基板表面近似连续的方式设置于基板的外侧,与基板保持部以及旋转杯一同旋转,使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从旋转杯向排气/排液部导向。
申请公布号 CN101060070B 申请公布日期 2010.10.27
申请号 CN200710096191.6 申请日期 2007.04.18
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 金子聪;松本和久;伊藤规宏;饱本正巳;户岛孝之;难波宏光
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/30(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 温大鹏
主权项 一种液体处理装置,其特征在于,包括:基板保持部,水平地保持基板,并能够与基板一同旋转;旋转杯,围绕被前述基板保持部保持的基板,能够与基板一同旋转;旋转机构,使前述旋转杯以及前述基板保持部一体旋转;表面液体供给机构,对基板的表面供给处理液;背面液体供给机构,对基板的背面供给处理液;排气/排液部,从前述旋转杯向外部进行排气以及排液;和导向部件,按照其表面及背面分别与基板的表面及基板的背面邻接、隔开间隔并对齐的方式设置于基板的外侧,与前述基板保持部以及前述旋转杯一同旋转,使向基板表面供给并从基板甩出的处理液经由其表面从前述旋转杯向前述排气/排液部导向,并且,使向基板背面供给并从基板甩出的处理液经由其背面从前述旋转杯向前述排气/排液部导向。
地址 日本东京都