| 发明名称 | 纳米光刻系统以及纳米光刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种纳米光刻系统以及纳米光刻方法，可用以将材料涂布到基板上。本发明的纳米光刻系统包含涂布结构以及光束聚焦装置，其中，该涂布结构由固体状的该材料所制成，并且其具有接触点用以接触该基板。该光束聚焦装置能发出光束，并且能将该光束聚焦于该涂布结构的该接触点上以熔化该接触点上的该材料。当该接触点的该材料被熔化且该接触点接触该基板时，该材料能涂布于该基板与该接触点接触的位置。 | ||
| 申请公布号 | CN101872128A | 申请公布日期 | 2010.10.27 |
| 申请号 | CN200910133678.6 | 申请日期 | 2009.04.22 |
| 申请人 | 瑞鼎科技股份有限公司;徐琅;杨裕雄;刘承贤 | 发明人 | 徐琅;王威;刘承贤;杨裕雄;苏益志;周忠诚 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 吴贵明;张英 |
| 主权项 | 一种纳米光刻系统，用以将材料涂布于基板上，所述纳米光刻系统包含：涂布结构，由固体状的所述材料制成，所述涂布结构具有接触点用以接触所述基板；以及光束聚焦装置，用以发出第一光束并将所述第一光束聚焦于所述涂布结构的所述接触点上。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||