发明名称 具有纳米结构插入层的GaN基LED
摘要 一种具有纳米结构插入层的GaN基LED,其中包括:一衬底;一纳米结构模板,该纳米结构模板外延生长在衬底上,该纳米结构模板的表面为凹凸形状;一插入层,该插入层外延生长在纳米结构模板的表面上;一N型欧姆接触层,该欧姆接触层外延生长在插入层上,该欧姆接触层上面的一侧形成有一台面;一有源层,该有源层外延生长在N型欧姆接触层的台面的另一侧上;一P型层,P型层外延生长在有源层上;一透明电极层,该透明电极层制作在P型层上;一P压焊电极,该压焊电极通过光刻制作在透明电极上;一N欧姆接触电极,该欧姆接触电极22制作在N型欧姆接触层的台面上。
申请公布号 CN101872820A 申请公布日期 2010.10.27
申请号 CN201010183393.6 申请日期 2010.05.19
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 朱继红;张书明;朱建军
分类号 H01L33/20(2010.01)I;H01L33/22(2010.01)I 主分类号 H01L33/20(2010.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汤保平
主权项 一种具有纳米结构插入层的GaN基LED,其中包括:一衬底;一纳米结构模板,该纳米结构模板外延生长在衬底上,该纳米结构模板的表面为凹凸形状;一插入层,该插入层外延生长在纳米结构模板的表面上;一N型欧姆接触层,该欧姆接触层外延生长在插入层上,该欧姆接触层上面的一侧形成有一台面;一有源层,该有源层外延生长在N型欧姆接触层的台面的另一侧上;一P型层,P型层外延生长在有源层上;一透明电极层,该透明电极层制作在P型层上;一P压焊电极,该压焊电极通过光刻制作在透明电极上;一N欧姆接触电极,该欧姆接触电极22制作在N型欧姆接触层的台面上。
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