发明名称 |
薄膜应力测试结构、测试方法及制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种薄膜应力测试结构、测试方法及制造方法,该结构配置于微机电系统的基片表面,包括:第一固定基座和第二固定基座,均配置于所述基片上,上述两个固定基座由形成于基片上的牺牲层和形成于牺牲层上的待测薄膜构成;悬臂梁,为待测薄膜构成的悬空结构,包括:测试梁,斜率梁和指示梁,指示梁的一端为梳齿结构,形成游标尺;主尺,由形成于基片上的牺牲层和形成于牺牲层上的待测薄膜构成,其为配置于所述基片上的梳齿结构,用于与所述游标尺配合读取所述指示梁的位移。本发明提供的薄膜应力测试结构、测试方法及制造方法,无须知道待测材料的泊松比便可准确测量薄膜应力,并能准确测出局部区域应力。 |
申请公布号 |
CN101871825A |
申请公布日期 |
2010.10.27 |
申请号 |
CN200910131087.5 |
申请日期 |
2009.04.22 |
申请人 |
北京广微积电科技有限公司 |
发明人 |
方辉;雷述宇 |
分类号 |
G01L1/04(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I;B81C5/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01L1/04(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
郭晓东;邢雪红 |
主权项 |
一种薄膜应力测试结构,其配置于微机电系统的基片表面,其特征在于,所述结构包括:第一固定基座和第二固定基座,均配置于所述基片上,上述两个固定基座由形成于基片上的牺牲层和形成于牺牲层上的待测薄膜构成;悬臂梁,为待测薄膜构成的悬空结构,包括:测试梁,与构成所述第二固定基座的待测薄膜连接;斜率梁,一端与所述测试梁连接,另一端与构成所述第一固定基座的待测薄膜连接;指示梁,一端连接于所述斜率梁的中心,另一端为梳齿结构,形成游标尺;主尺,由形成于基片上的牺牲层和形成于牺牲层上的待测薄膜构成,其为配置于所述基片上的梳齿结构,用于与所述游标尺配合读取所述指示梁的位移。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区西环南路18号B座117室 |