发明名称 用于考察附加外场对配合物小晶体生长影响的实验装置
摘要 本发明涉及一种用于考察附加外场对配合物小晶体生长影响的实验装置,属于单晶生长领域。在配合物小晶体合成实验工作中,最值得期待的是发现有价值的材料苗子,然而,这种发现机会十分稀少。本案指向提高相关探寻效率。本案装置包括一个盘状水槽,在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口,进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通,以及,带有许多孔洞的盖板,该盖板是活动的盖板,本案要点是,所述孔洞是有底的凹形坑洞,凹形坑洞的内腔形状呈圆柱状,以及,在凹形坑洞的底部位置装设有永久磁铁。本案建立了一种能够对反应进程进行磁场干预的实用机构,藉此引导和强化符合相应合成实验探求目标的反应倾向以及结晶取向。
申请公布号 CN101423975B 申请公布日期 2010.10.27
申请号 CN200810172985.0 申请日期 2008.10.21
申请人 宁波大学 发明人 李榕生;宋岳;姜晶晶;王青春;杨欣;王鲁雁;王峰;巫远招;刘晓利
分类号 B01L9/00(2006.01)I;C30B7/04(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I 主分类号 B01L9/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 用于考察附加外场对配合物小晶体生长影响的实验装置,包括一个盘状水槽,在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口,进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通,以及,带有许多孔洞的盖板,该盖板是活动的盖板,其特征是,所述孔洞是有底的凹形坑洞,凹形坑洞的内腔形状呈圆柱状,在凹形坑洞的底部位置装设有永久磁铁,所述永久磁铁是硬磁铁氧体永磁体或钕铁硼永磁体,该永久磁铁呈扁平板状,该永久磁铁被扁平匣状物包覆其中,所述扁平匣状物与凹形坑洞的底部固定贴合连接为一体,凹形坑洞的深度介于5.0厘米到6.0厘米之间,凹形坑洞的圆柱状内腔直径介于5.3厘米到5.5厘米之间。
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