发明名称 一种高硬度自洁釉及制备方法
摘要 一种高硬度自洁釉及制备方法,属陶瓷制品技术领域,用于解决提高自洁洁具釉面硬度问题。特别之处是:自洁釉原料组成包括如下质量份的物质:钾长石8-16,石英10-18,高岭土2,三氧化二铝1-4,方解石1-4,硅酸锆1-3,熔块59-69,其中硅酸锆平均粒径为1~1.5um,熔块的熔融温度为1500~1700℃。本发明通过引入适量耐高温熔块及超细硅酸锆,调整釉面化学成分,来调整釉中石英、硅酸锆、玻璃相等矿物组成。使(-Si-O-)网络结构更加致密,达到提高釉面硬度的目的。此外,通过改变颗粒级配,将釉浆粒度(≤10um)控制在70%~80%,使本发明的自洁釉更加趋于光滑平整。
申请公布号 CN101870593A 申请公布日期 2010.10.27
申请号 CN201010230337.3 申请日期 2010.07.20
申请人 唐山惠达陶瓷(集团)股份有限公司 发明人 王彦庆;宋子春;董志军;檀瑞超;吉艳光;董子红;高晓琳;马艳丽;王春金
分类号 C04B41/86(2006.01)I 主分类号 C04B41/86(2006.01)I
代理机构 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 代理人 周晓萍;李桂芳
主权项 一种高硬度自洁釉,其特征在于,所述自洁釉原料组成包括如下质量份的物质:钾长石8-16,石英10-18,高岭土2,三氧化二铝1-4,方解石1-4,硅酸锆1-3,熔块59-69,其中硅酸锆平均粒径为1~1.5um,熔块的熔融温度为1500~1700℃。
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