绝缘膜形成用组合物和其制法及二氧化硅系绝缘膜和其形成法

摘要

本发明的绝缘膜形成用组合物含有水解缩合物和有机溶剂，所述水解缩合物是在(B)成分存在的条件下将(A)成分水解缩合而得到的。所述(B)成分为聚碳硅烷，其含有主链以-(Si-CH2)x-表示的结构，而且具有用下述通式(4)表示的结构、用下述通式(5)表示的结构、用下述通式(6)表示的结构以及用下述通式(7)表示的结构；所述(A)成分为选自用下述通式(1)～(3)表示的化合物中的至少1种的硅烷化合物。RaSi(OR1)4-a……(1)Si(OR2)4……(2)R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c……(3)

主权项

1.一种绝缘膜形成用组合物，其特征在于，含有水解缩合物和有机溶剂，所述水解缩合物是在(B)成分存在的条件下将(A)成分水解缩合而得到的，所述(B)成分为聚碳硅烷，其含有主链以-(Si-CH₂)_x-表示的结构，而且具有用下述通式(4)表示的结构、用下述通式(5)表示的结构、用下述通式(6)表示的结构以及用下述通式(7)表示的结构，在所述(B)成分的分子中，以下述通式(4)表示的结构为5～20摩尔％，以下述通式(5)表示的结构为5～20摩尔％，以下述通式(6)表示的结构为20～50摩尔％，以下述通式(7)表示的结构为30～60摩尔％，所述(A)成分为选自用下述通式(1)～(3)表示的化合物中的至少1种的硅烷化合物，R_aSi(OR¹)_4-a……(1)式(1)中，R表示氢原子、氟原子或者1价的有机基团，R¹表示1价的有机基团，a表示1～2的整数；Si(OR²)₄……(2)式(2)中，R²表示1价的有机基团；R³_b(R⁴O)_3-bSi-(R⁷)_d-Si(OR⁵)_3-cR⁶_c……(3)式(3)中，R³～R⁶相同或者相异、分别表示1价的有机基团，b以及c相同或者相异、表示0～2的整数，R⁷表示氧原子、亚苯基或者以-(CH₂)_m-表示的基团，在此，m是1～6的整数，d表示0或者1；式(5)中，R⁸表示选自氢原子、卤原子、羟基、烷氧基、酰氧基中的基团；式(6)中，R⁹以及R¹⁰相同或者相异，表示选自氢原子、卤原子、羟基、烷氧基、酰氧基中的基团；式(7)中，R¹¹～R¹³相同或者相异，表示选自氢原子、卤原子、羟基、烷氧基、酰氧基中的基团。