辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件

摘要

辐射敏感组合物，其包含(a)至少一种可光聚合的化合物，其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团，其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者以下的分子量，并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备，其中所述反应物以根据以下条件的量使用：异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数；(b)至少一种敏化剂，其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射，并且选自：通式(I)的二氢吡啶和通式(II)的唑衍生物：(II)(c)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(b)一起形成自由基，并且选自2，2’，4，4’，5，5’-六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N-杂环化合物，以及上述化合物的混合物；和(d)任选地一种或多种选自以下的组分：碱-可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂；条件是，所述辐射敏感组合物不包含茂金属。

主权项

1.辐射敏感组合物，其包含(a)至少一种可光聚合的化合物，其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团，其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者更小的分子量，并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备，其中所述反应物以根据以下条件的量使用：异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数；(b)至少一种敏化剂，其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射，并且选自：(i)通式(I)的1，4-二氢吡啶衍生物其中R¹选自氢原子、-C(O)OR⁷、任选地被取代的烷基基团、任选地被取代的芳基基团和任选地被取代的芳烷基基团，R²和R³独立地选自任选地被取代的烷基基团、任选地被取代的芳基基团、CN和氢原子，R⁴和R⁵独立地选自-C(O)OR⁷、-C(O)R⁷、-C(O)NR⁸R⁹和CN，或者R²和R⁴一同形成5-到7-元碳环或者杂环，其中单元存在于与1，4-二氢吡啶环的位置5接近的碳环或者杂环，并且其中所述碳环或者杂环任选地包含另外的取代基，或者R²和R⁴以及R³和R⁵两者形成5-到7-元碳环或者杂环，其中单元存在于与二氢吡啶环的位置3和5接近的碳环或者杂环，并且其中所述碳环或者杂环任选地包含另外的取代基，或者配对R²/R⁴和R³/R⁵的一个形成5-到7-元碳环或者杂环，其中单元存在于与二氢吡啶环的位置5或者3接近的碳环或者杂环，并且其中所述碳环或者杂环任选地包含另外的取代基，并且另一个配对形成任选地被取代的苯基环，或者R²和R¹或者R³和R¹形成5-到7-元杂环，其可以任选地包含一个或多个取代基，并且除其与1，4-二氢吡啶环共用的氮原子之外，其任选地包含另外的氮原子、-NR¹³基团、-S-或者-O-，R¹³选自氢原子、烷基基团、芳基基团和芳烷基基团，R⁶选自任选地被卤素原子或者一C(O)基团取代的烷基基团、任选地被取代的芳基基团、任选地被取代的芳烷基基团，和任选地被取代的杂环基团，R⁷是氢原子、芳基基团、芳烷基基团或者烷基基团，其中烷基基团和芳烷基基团的烷基单元任选地包含一个或多个C-C双键和/或C-C三键，并且R⁸和R⁹独立地选自氢原子、任选地被取代的烷基基团、任选地被取代的芳基基团和任选地被取代的芳烷基基团，和(ii)通式(II)的唑化合物其中，每个R^a、R^b和R^c独立地选自卤素原子、任选地被取代的烷基基团、任选地被取代的芳基基团，其还可以是稠合的，任选地被取代的芳烷基基团、基团-NR’R”和基团-OR”’，其中R’和R”独立地选自氢原子、烷基、芳基或者芳烷基基团，R”’是任选地被取代的烷基、芳基或者芳烷基基团或者氢原子，并且k、m和n独立地是0或者1到5的整数；(c)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(b)一起形成自由基，并且选自2，2’，4，4’，5，5’-六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N-杂环化合物，以及上述化合物的混合物；和(d)任选地一种或多种选自以下的组分：碱-可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂；条件是，所述辐射敏感组合物不包含任何茂金属，所述辐射敏感组合物的特征在于其还包含至少一种具有至少一个烯属不饱和可自由基聚合基团和至少一个P-OH基团的组分。