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发明名称 SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SURFACE PREPARATION METHOD
摘要
申请公布号 KR20100114884(A) 申请公布日期 2010.10.26
申请号 KR20107016195 申请日期 2009.01.23
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 KHALID RADOUANE
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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