发明名称 表面电浆共振高感度光学记录媒介
摘要
申请公布号 TWI332209 申请公布日期 2010.10.21
申请号 TW095127414 申请日期 2006.07.27
申请人 蔡定平 发明人 蔡定平;傅源兴;高宗圣
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 欧奉璋 台北市信义区松山路439号3楼
主权项 一种具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,可进一步包括:一透明基板;一第一介电层,该第一介电层沉积于该透明基板上;复数个金属奈米颗粒,该金属奈米颗粒系涂布于该第一介电层上;一光学记录材料,该光学记录材料系涂布于该复数个奈米级金属颗粒上;以及一第二介电层,该第二介电层系沉积于该光学记录材料上。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该光学记录材料系为有机材料。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该光学记录材料系为无机材料。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该光学记录材料系为相变化材料。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该光学记录材料系为元素。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该光学记录材料系为混合物。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该光学记录材料系为化合物。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该金属奈米颗粒之材料系为金属元素。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该金属奈米颗粒之材料系为金属化合物。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该金属奈米颗粒之材料系为金属混合物。依申请专利范围第1项所述之具有表面电浆共振高感度光学记录媒介之记录层结构,其中,该金属奈米颗粒之材料系为金属与非金属化合物。
地址 台北市大安区罗斯福路4段1号