于模与可聚合组成物之间提供合意之特性的方法及组成物

主权项

一种于具有一表面之模具及可聚合组成物间提供合意湿润及脱模特性之方法，该方法包含：以一体积之含表面活性剂之溶液在该表面形成涂覆层，且该表面活性剂包含一氟化疏水性组份，其中该涂覆层不是一先验脱模层(a priori release layer)：使该模具与该可聚合组成物接触，其中该涂覆层提供一接触角，该接触角相对于该可聚合组成物具有少于50°之数值。如申请专利范围第1项之方法，其中，该接触角之大小系少于20°。如申请专利范围第1项之方法，其中，该含表面活性剂之溶液及该可聚合组成物系自相同构成组份形成。如申请专利范围第1项之方法，其中，该含表面活性剂之溶液及该可聚合组成物系自不同构成组份形成。如申请专利范围第1项之方法，其中，该氟化疏水性组份包含CF3及CF2基团。一种降低基材及模具间之黏着力之方法，该方法包含：使压印材料置放于该模具及该基材之间，其中该压印材料包含一表面活性剂组份以及本体材料，且该压印材料具有富表面活性剂组份之次部份及位于该富表面活性剂组份次部份与该基材间之耗乏表面活性剂组份之次部份；使该压印材料与该模具接触；固化于该模具以及该基材之间的压印材料且该模具不具有一先验脱模层；以及使该模具从经固化之压印材料分离，致使该经固化之压印材料仍然黏附于该基材。如申请专利范围第6项之方法，其中，将该压印材料置放之步骤进一步包含形成一空气-液体界面，该表面活性剂组份具有多数个相对端，且该表面活性剂组份之该等相对端之一者对该本体材料具有亲和性，且剩余端具有氟组份，且该氟组份自该空气-液体界面延伸。如申请专利范围第6项之方法，其中，将该压印材料置放之步骤进一步包含沈积数个该压印材料之滴液于该基材上。如申请专利范围第6项之方法，其中，将该压印材料置放的步骤进一步包含于该基材上旋涂该压印材料。如申请专利范围第6项之方法，进一步包含固化该压印材料以形成固化形成物及置于该模具及该固化形成物间之薄板。如申请专利范围第6项之方法，其中该模具包含一材料，其选自于由熔融矽石、石英、铟锡氧化物、似钻石之碳、MoSi及溶胶所组成之材料群组。一种界定空气-液体界面之组成物，该组成物包含：可聚合之本体材料；及表面活性剂，其具有多数个相对端，其一端系对该本体材料具有亲和性，且剩余端具有氟组份，该表面活性剂具有下列化学式：@sIMGTIF!d10006.TIF@eIMG!其中R及R’系相同或不同的且系选自于由H及甲基所组成之组群；其中R”系选择性的磺醯基连接基团-SO2N(R''''')，且R'''''系选自于由C1至C6烷基所组成之组群；其中(OR''')z系一聚(氧烷撑基)，其包含至少一类型之氧烷撑基单元；其中R''''系一端基，其选自于由H、甲基以及C1至C4烷基所组成之组群；其中该x比y之比例系于1：2至3：1的范围内；且其中m为包含2至10之范围中的整数。如申请专利范围第12项之组成物，其中，该氟组份系自该空气-液体界面延伸。如申请专利范围第12项之组成物，其进一步包含一额外的表面活性剂，该额外之表面活性剂组份系选自于由离子性、非离子性、阳离子性及两性表面活性剂所组成之组群。如申请专利范围第12项之组成物，其进一步包含一额外之表面活性剂组份具有下列化学式：F(CF2CF2)X’CH2CH2O(R''''''O)Y’R'''''''其中，(R''''''O)Y’系聚(氧烷撑基)，其包含具有2至4个碳原子之基团，且R'''''''系H或C1至C4烷基之端基，且X’及Y’包含2至10之范围中之整数。如申请专利范围第12项之组成物，其进一步包含一额外之表面活性剂组份具有下列结构：F(CF2CF2)X’-烷基-N+R''''''3Cl-其中，x’系包含1至7之范围之整数。如申请专利范围第12项之组成物，其进一步包含一额外之表面活性剂组份具有下列结构：@sIMGTIF!d10007.TIF@eIMG!其中，x’系包含0至6之范围中之整数，且y’系包含0至15之范围中之整数。如申请专利范围第12项之组成物，其进一步包含一额外的表面活性剂组份具有下列结构：@sIMGTIF!d10008.TIF@eIMG!其中，x’系具有1至2数值之整数；y’系具有2至1数值之整数；z’系具有包含0至6的范围中之数值之整数。如申请专利范围第12项之组成物，其进一步包含一额外的表面活性剂，该额外之表面活性剂包含氟及矽原子。如申请专利范围第12项之组成物，其进一步包含一额外的表面活性剂，且该额外之表面活性剂组份系选自于由以矽为主之表面活性剂、以烃为主之表面活性剂，及氟化表面活性剂所组成之组群。如申请专利范围第15项之组成物，其中(R''''''O)Y’系一聚(氧烷撑基)基团，该基团包括CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH(CH3)CH2-，或-CH(CH3)CH(CH3)-。如申请专利范围第15项之组成物，其中R'''''''系氢或甲基。