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一种去光阴离子电沉积涂膜形成方法，其特征为由下述步骤顺序形成，步骤1：由(a)含羟基之不饱和单体、(b)含羧基之不饱和单体、(c)其他自由基聚合性不饱和单体自由基共聚合所得之(A)乙烯系共聚物树脂、与胺基树脂硬化剂及/或嵌段聚异氰酸酯化合物之(B)交联剂混合分散所成乳液之阴离子电沉积涂料(I)，电沉积涂装于铝合金材料表面上，形成未硬化的电沉积涂膜步骤，其中该(A)乙烯系共聚物树脂与(B)交联剂之溶解性参数差为0.5~1.5，步骤2：使该未硬化电沉积涂膜涂装的铝合金材料，浸渍于在二壬基萘磺酸、及/或二壬基萘二磺酸之高级烷芳基磺酸中添加硷性化合物、水溶化所成的pH7.1~14水溶液(II)中，在通电条件为第1段施加10~150V电压后，第2段施加150~300V电压的2段式通电方法下通电的步骤，步骤3：水洗步骤，及步骤4：烘烤硬化、形成去光电沉积涂膜的步骤。如申请专利范围第1项之去光阴离子电沉积涂膜形成方法，其中去光电沉积涂膜具有10~25之L值。 |
