| 主权项 |
一种奈米粉流体(nanofluids)压印系统，其包含：一第一基板；以及一封盖，设置于该第一基板上，以使该封盖与该第一基板之间系形成一腔室；其中，该腔室内更包含：一第二基板，设置于该第一基板上；一光阻层，涂布于该第二基板上；以及一模仁，其上具有一微结构，用以对该光阻层进行压印成形；其中，该奈米压印系统更包含一奈米粉流体输送装置，用以提供具有悬浮的奈米颗粒的一奈米粉流体到该腔室，且当该流体流经该模仁上方时，该奈米颗粒系沉积于该模仁之上，以增加该模仁压印的均匀性。如申请专利范围第1项所述的奈米粉流体压印系统，其中该第一与该第二基板系为透光基板。如申请专利范围第2项所述的奈米粉流体压印系统，其更包含一UV光源，用以对压印成形的光阻层进行固化。如申请专利范围第3项所述的奈米粉流体压印系统，其中该光阻层系由UV固化光阻所构成。如申请专利范围第1项所述的奈米粉流体压印系统，其中该模仁系由PDMS (polydimethylsiloxane)材料所构成。如申请专利范围第1项所述的奈米粉流体压印系统，其中该模仁上之微结构系为一奈米微结构。如申请专利范围第1项所述的奈米粉流体压印系统，其中该模仁之上表面更具有一凹槽结构。如申请专利范围第1项所述的奈米粉流体压印系统，其中该第一与该第二基板系为非平面基板。如申请专利范围第1项所述的奈米粉流体压印系统，其中该模仁与该第二基板之间更包含一固定装置，以固定该模仁与该第二基板的相对位置。一种奈米粉流体(nanofluids)压印方法，其至少包含下列步骤：提供一第一基板；提供一第二基板，设置于该第一透光基板上；于该第二基板上，涂布一光阻层；提供一具有一微结构之模仁，用以对该光阻层进行压印成形；以及提供一具有悬浮的奈米颗粒的一奈米粉流体，当该流体流经该模仁上方时，该奈米颗粒系受重力影响而沉积于该模仁之上，以提升该模仁压印的均匀性。如申请专利范围第10项所述的奈米粉流体压印方法，其中该第一与该第二基板系为透光基板。如申请专利范围第11项所述的奈米粉流体压印方法，其更包含提供一UV光源，用以对压印成形的光阻层进行固化。如申请专利范围第12项所述的奈米粉流体压印方法，其中该光阻层系由UV固化光阻所构成。如申请专利范围第8项所述的奈米粉流体压印方法，其中该模仁系由PDMS材料所构成。如申请专利范围第10项所述的奈米粉流体压印方法，其中该模仁上之微结构系为一奈米微结构。如申请专利范围第10项所述的奈米粉流体压印方法，其中该模仁之上表面更具有一凹槽结构。如申请专利范围第10项所述的奈米粉流体压印方法，其中该第一与该第二基板系为非平面基板。如申请专利范围第10项所述的奈米粉流体压印方法，其中在提供该奈米粉流体之前，更包含一固定步骤，以固定该模仁与该第二基板的相对位置。如申请专利范围第18项所述的奈米粉流体压印方法，其中该固定步骤，系为一封胶(Seal)步骤。 |
