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Un aparato para revestir un substrato usando deposición física de vapor, que comprende una cámara de vacío en la que se coloca una bobina (1) para mantener una cantidad de material conductor en levitación y para calentar y evaporar ese material, usando una corriente eléctrica variable en la bobina (1), en el que se colocan medios en la bobina para aislar la bobina (1) del material levitado, y en el que los medios de aislamiento son parte de un recipiente (2) hecho de material no conductor, teniendo el recipiente (2) por lo menos una abertura (5) para guiar el material conductor evaporado hacia el substrato que se va a revestir, caracterizado porque el recipiente (2) ha sido provisto de medios (8) de calentamiento para calentar el recipiente (2).
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