一种硅片标记捕获系统与方法

摘要

本发明提供一种硅片标记捕获系统与方法，所述硅片标记捕获系统包括：光源与照明模块、成像模块、捕获标记、参考光栅、位置采集与运动控制模块、光电探测与信号采集处理模块以及对准操作与管理模块，通过所述捕获标记的成像扫描所述参考光栅获得捕获信号，通过所述捕获信号的相位信息和幅值信息确定所述捕获标记的位置，以实现上片后标记对准位置的大范围捕获，确保在上片预对准误差超出硅片对准系统的捕获范围的情况下，能够准确、迅速地实现标记对准位置的捕获，从而提高生产效率，且所述硅片标记捕获系统的各模块与所述硅片对准系统共用，节省安装空间，降低生产成本。

主权项

一种硅片标记捕获系统，用于实现光刻设备的标记对准位置捕获，其特征在于，所述硅片标记捕获系统包括：光源与照明模块、成像模块、捕获标记、参考光栅、位置采集与运动控制模块、光电探测与信号采集处理模块以及对准操作与管理模块；其中，所述捕获标记设置于硅片上，所述光源与照明模块提供照明光束照射到所述捕获标记上，形成携带所述捕获标记信息的衍射光，所述衍射光通过所述成像模块成像；所述位置采集与运动控制模块采集承载所述硅片的运动台的位置信息，将所述位置信息提供给所述对准操作与管理模块，以控制所述运动台的运动，所述运动台的运动使得所述捕获标记的成像扫描所述参考光栅并产生光学信号；所述光电探测与信号采集处理模块采集并处理所述光学信号，产生捕获信号，并将所述捕获信号传输至所述对准操作与管理模块，所述捕获信号包括第一捕获信号与第二捕获信号，所述对准操作与管理模块通过所述第一捕获信号的相位信息与幅值信息和所述第二捕获信号的相位信息与幅值信息确定所述捕获标记的位置；所述捕获标记具有栅条，所述栅条在其延伸方向的尺寸大于或者等于硅片上片重复误差；所述捕获标记包括第一光栅分支和第二光栅分支，所述第一光栅分支与所述第二光栅分支的周期不同；所述参考光栅包括第一参考光栅分支和第二参考光栅分支，所述第一参考光栅分支与所述第一光栅分支的成像的周期相同，所述第二参考光栅分支与所述第二光栅分支的成像的周期相同。