| 发明名称 | 掩膜 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于在显示装置的基板上沉积低分子量材料的掩膜，包括：支承框架，形成有图案形成区域；多个图案形成部分，形成在图案形成区域中；以及辅助支承框架，形成在图案形成部分之间。 | ||
| 申请公布号 | CN1983560B | 申请公布日期 | 2010.10.20 |
| 申请号 | CN200610167268.X | 申请日期 | 2006.12.12 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 朴承圭;许宗茂 |
| 分类号 | H01L21/82(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/82(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 李伟 |
| 主权项 | 一种掩膜，包括：支承框架，形成有图案形成区域；多个图案形成部分，形成在所述图案形成区域中；辅助支承框架，形成在所述图案形成部分之间；以及保持件，形成在所述图案形成部分与所述辅助支撑框架之间；其中，所述辅助支承框架包括向上突出的突起或凹入部分，所述突起或凹入部分形成在所述辅助支承框架的周界中且与所述保持件对应；其中，所述保持件连接至所述突起或所述凹入部分。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||