| 发明名称 | 校准发光装置和方法 | ||
| 摘要 | 提出一种发光装置(1)，该装置包括用于发光的光源(5)和用于在随应用而定的分布中布置发射的光的校准器(40)。该光源包括：(i)能够发光的半导体器件(10)；(ii)本体(20)，具有与半导体器件(10)相邻的底表面(21)和相对顶表面(22)；以及(iii)与顶表面(22)相邻定位的反射器(30)。发光装置(1)的特征在于反射器(30)具有比本体(20)的底表面(21)更大的表面。这尤其有利于用更小校准器产生给定的光束校准，或者可选地有利于产生如下校准器，该校准器产生明显更窄的光束。 | ||
| 申请公布号 | CN101868864A | 申请公布日期 | 2010.10.20 |
| 申请号 | CN200880116852.X | 申请日期 | 2008.11.13 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | R·P·范戈尔科姆;M·C·J·M·威森伯格 |
| 分类号 | H01L33/00(2006.01)I;F21V13/10(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 吴立明;韩剑伟 |
| 主权项 | 一种发光装置(1)，包括：-光源(5)，包括：-能够发光的半导体器件(10)，-本体(20)，具有与所述半导体器件(10)相邻的底表面(21)和相对顶表面(22)，以及-与所述顶表面(22)相邻定位的反射器(30)，以及-校准器(40)，用于在随应用而定的分布中布置发射的光，其特征在于：-所述反射器(30)具有比所述本体(20)的所述底表面(21)更大的表面。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬市 | ||