用于再生衬底的表面的方法

摘要

本发明涉及用于再生衬底的表面的方法，其中该表面，特别为硅表面，包括突出残留形貌，该突出残留形貌包括至少一层的第一材料。通过在衬底的表面的非突起区域中设置填充材料并且随后进行抛光，能够实施所述再生，使得在现有技术中所用的消耗材料的双面抛光步骤不再是必需的。

主权项

用于再生衬底的表面的方法，其中所述表面特别为硅表面，包括突起残留形貌，所述突起残留形貌特别是由层转移工艺所产生，包括至少一层的诸如硅的第一材料，所述方法具有以下步骤：a)在所述衬底的所述表面的非突起区域中提供填充材料，特别是硅，以及b)抛光所述表面，其中，在抛光步骤b)期间，所述填充材料和所述突起残留形貌的至少一部分被同时抛光。