| 发明名称 | 用于利用线束照射样本的光学照射装置 | ||
| 摘要 | 一种用于利用线束照射样本的光学系统包括：光源(24)；光束定形器(30)，其用于将光源发射的光束转换成中间像散像；以及成像系统，其用于将该中间像散像转换成最终的像散像并且用于照射样本。光束定形器(30)在侧向平面内以及在横向平面内提供不同的非单位放大率，并且包括用于实现角放大和角缩小的环形入射表面和具有有限曲率半径的环形出射表面。本发明允许结合成像系统使用通常用来使光输出具有更圆的截面的现有光束定形装置，以便提供对样本的线束照射。 | ||
| 申请公布号 | CN101868752A | 申请公布日期 | 2010.10.20 |
| 申请号 | CN200880117273.7 | 申请日期 | 2008.11.19 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | E·M·H·P·范迪克;S·斯塔林加 |
| 分类号 | G02B27/09(2006.01)I;G11B7/125(2006.01)I | 主分类号 | G02B27/09(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 李亚非;刘鹏 |
| 主权项 | 一种用于利用线束照射样本的光学系统，包括：光源(24)；光束定形器(30)，其用于将光源发射的光束转换成中间像散像；以及成像系统(26)，其用于将该中间像散像转换成最终的像散像并且用于照射样本(20)，其中光束定形器(30)在侧向平面内以及在横向平面内提供不同的非单位放大率，并且包括环形入射表面和环形出射表面，每个表面具有有限的曲率半径。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||