| 发明名称 | 一种多晶硅化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种多晶硅化学机械抛光液，其含有：研磨颗粒、水和至少一种具有两个以上<img file="200880117646.0_AB_0.GIF" wi="105" he="49" />基团的化合物。本发明的抛光液可提高多晶硅去除速率以及多晶硅对介电材料的抛光选择比。在半导体等晶片制造领域具有较好的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN101868511A | 申请公布日期 | 2010.10.20 |
| 申请号 | CN200880117646.0 | 申请日期 | 2008.11.07 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;杨春晓;王晨 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 201203 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||