发明名称 | 光束均化器和激光照射装置 | ||
摘要 | 本发明涉及光束均化器和激光照射装置。由于光学元件特性的缘故,光学元件在光学系统中的设置是受限的,所以在设计用于形成预定的激光束的光学系统中存在困难。本发明的目的是为了设计具有所需功能的光学系统,该光学系统不受设置光学元件的限制的影响。因此,将离轴柱面透镜阵列用作作用在光束长边方向上的柱面透镜阵列。 | ||
申请公布号 | CN101866024A | 申请公布日期 | 2010.10.20 |
申请号 | CN201010230937.X | 申请日期 | 2005.03.24 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 田中幸一郎;大石洋正 |
分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I | 主分类号 | G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 徐予红 |
主权项 | 一种透镜阵列,包括:多个离轴柱面透镜,其中每个离轴柱面透镜的母线和它的中心轴之间的距离从透镜阵列的中心向透镜阵列的两端增加。 | ||
地址 | 日本神奈川县厚木市 |