发明名称 制膜装置及制膜方法
摘要 本发明提供制膜装置及制膜方法,不会出现由等待时间导致的生产性下降,防止了因排出头的温度变化引起的排出不均匀。制膜装置(1)具备:载物台(2),装载基板(P);排出头(3);维护装置(5、6、7),实施排出头(3)的维护;以及腔室(8),收置它们。在腔室(8)内,设置描绘区域(E1)和维护区域(E2),在描绘区域(E1)和维护区域(E2)之间设置有使排出头(3)移动的输送装置(25)。在腔室(8)中设置有温度调整机构(56),对于使排出头(3)位于维护区域(E2)的期间的维护区域(E2)的温度,以使得其相对于使排出头(3)位于描绘区域(E1)的期间的描绘区域(E1)的温度相同或者较高的方式,进行调整。
申请公布号 CN101862724A 申请公布日期 2010.10.20
申请号 CN201010165195.7 申请日期 2010.04.20
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 春日治
分类号 B05C5/00(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;B05B13/02(2006.01)I 主分类号 B05C5/00(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 陈海红;段承恩
主权项 一种制膜装置,其特征为,具备:载置基板的载物台;具有设置有多个喷嘴的喷嘴面,从该喷嘴面的各喷嘴排出功能液的液滴的排出头;实施上述排出头的维护的维护装置;以及收置上述载物台、上述排出头和上述维护装置的腔室;在上述腔室内,设置有配置有上述载物台的描绘区域和配置有上述维护装置的维护区域,且在上述描绘区域与上述维护区域之间设置有使上述排出头移动的输送装置,在上述腔室中设置有温度调整机构,该温度调整机构,至少对于通过上述输送装置使上述排出头位于上述维护区域的期间的上述维护区域的温度,以使得该温度相对于通过上述输送装置使上述排出头位于上述描绘区域的期间的上述描绘区域的温度相同或者较高的方式,进行调整。
地址 日本东京都