发明名称 DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA RECUBRIR UNIFORMEMENTE SUSTRATOS.
摘要 Dispositivo para cubrir uniformemente una superficie de un sustrato (10; 22) con un líquido, con las siguientes características: un medio (12a, 12b; 20a, 20b) de retención para el sustrato (10; 22), que está configurado para fijar el sustrato (10; 22) de tal manera que se forma un volumen de proceso por medio de la superficie del sustrato (10; 22) y el medio (12a, 20a) de retención; un medio (14; 50) de humectación que está configurado para introducir el líquido en el volumen de proceso sobre la superficie del sustrato (10; 22); y un medio (18a-18c) de basculación que está configurado para inclinar el medio (12a; 12b; 20a; 20b) de retención con el sustrato (10; 22) con respecto a un primer y a un segundo eje, estando dispuestos el primer y el segundo eje en un plano paralelo a la superficie del sustrato (10; 22) y formando un ángulo predeterminado entre sí para distribuir de este modo el líquido sobre la superficie del sustrato.
申请公布号 ES2346707(T3) 申请公布日期 2010.10.19
申请号 ES20070703440T 申请日期 2007.02.13
申请人 STANGL SEMICONDUCTOR EQUIPMENT AG;WURTH SOLAR GMBH & CO. KG 发明人 STANGL, WOLFGANG;STANGL, HANS-JURGEN
分类号 B05B15/12;B05C5/00;B05C9/06;B05C11/08;B05C15/00;H01L21/00 主分类号 B05B15/12
代理机构 代理人
主权项
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