发明名称 |
DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA RECUBRIR UNIFORMEMENTE SUSTRATOS. |
摘要 |
Dispositivo para cubrir uniformemente una superficie de un sustrato (10; 22) con un líquido, con las siguientes características: un medio (12a, 12b; 20a, 20b) de retención para el sustrato (10; 22), que está configurado para fijar el sustrato (10; 22) de tal manera que se forma un volumen de proceso por medio de la superficie del sustrato (10; 22) y el medio (12a, 20a) de retención; un medio (14; 50) de humectación que está configurado para introducir el líquido en el volumen de proceso sobre la superficie del sustrato (10; 22); y un medio (18a-18c) de basculación que está configurado para inclinar el medio (12a; 12b; 20a; 20b) de retención con el sustrato (10; 22) con respecto a un primer y a un segundo eje, estando dispuestos el primer y el segundo eje en un plano paralelo a la superficie del sustrato (10; 22) y formando un ángulo predeterminado entre sí para distribuir de este modo el líquido sobre la superficie del sustrato.
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申请公布号 |
ES2346707(T3) |
申请公布日期 |
2010.10.19 |
申请号 |
ES20070703440T |
申请日期 |
2007.02.13 |
申请人 |
STANGL SEMICONDUCTOR EQUIPMENT AG;WURTH SOLAR GMBH & CO. KG |
发明人 |
STANGL, WOLFGANG;STANGL, HANS-JURGEN |
分类号 |
B05B15/12;B05C5/00;B05C9/06;B05C11/08;B05C15/00;H01L21/00 |
主分类号 |
B05B15/12 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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