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发明名称 Physical vapor deposition apparatus
摘要
申请公布号 KR100988148(B1) 申请公布日期 2010.10.18
申请号 KR20080077229 申请日期 2008.08.07
申请人 发明人
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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