发明名称 PLASMA ENHANCED CYCLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON-CONTAINING FILMS
摘要
申请公布号 KR100988096(B1) 申请公布日期 2010.10.18
申请号 KR20080017797 申请日期 2008.02.27
申请人 发明人
分类号 C23C16/30;C23C16/00 主分类号 C23C16/30
代理机构 代理人
主权项
地址
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