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经营范围
发明名称
PLASMA ENHANCED CYCLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON-CONTAINING FILMS
摘要
申请公布号
KR100988096(B1)
申请公布日期
2010.10.18
申请号
KR20080017797
申请日期
2008.02.27
申请人
发明人
分类号
C23C16/30;C23C16/00
主分类号
C23C16/30
代理机构
代理人
主权项
地址
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