| 发明名称 | 微光刻投射曝光设备的照明系统 | ||
| 摘要 | 本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，其中该照明系统(200、700)在所述投射曝光设备的操作中对投射曝光设备的投射物镜(40)的物面(OP)进行照明，并且所述照明系统(200、700)被调整为使得在所述照明系统的操作中产生的并仅在所述物面(OP)中重叠的彼此成点对称关系的光分量(10、20)具有相互正交的偏振状态。 | ||
| 申请公布号 | CN101861548A | 申请公布日期 | 2010.10.13 |
| 申请号 | CN200880116467.5 | 申请日期 | 2008.11.13 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份公司 | 发明人 | 达米安·菲奥尔卡;弗拉丹·布拉尼克 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种微光刻投射曝光设备的照明系统，其中，在所述投射曝光设备的操作中，照明系统(200、700)对所述投射曝光设备的投射物镜(40)的物面(OP)进行照明；并且所述照明系统(200、700)被调整成使得在所述照明系统的操作中产生并且仅在所述物面(OP)中重叠的彼此成点对称关系的光分量(10、20)具有相互正交的偏振状态。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||