发明名称 |
薄膜太阳能电池及其形成方法、太阳能电池结构的生产线 |
摘要 |
本发明涉及CIGS型的薄膜太阳能电池。本发明的特征在于使用两个整体形成的缓冲层,在CIGS层(3)顶上形成的第一ALD Zn(O,S)缓冲层和在第一缓冲层(7)顶上形成的第二ALD ZnO缓冲层(8)。两个缓冲层都在同一处理步骤中使用ALD(原子层沉积)来沉积。本发明还涉及生产电池的方法和制造电池结构的生产线。 |
申请公布号 |
CN1820358B |
申请公布日期 |
2010.10.13 |
申请号 |
CN200480019693.3 |
申请日期 |
2004.05.05 |
申请人 |
索里布罗研究公司 |
发明人 |
C·普拉策尔比约尔克曼;J·凯斯莱;L·斯托尔特 |
分类号 |
H01L21/363(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;H01L31/072(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/363(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
范赤;段晓玲 |
主权项 |
一种薄膜太阳能电池,包括在背面电极层(2)上形成的p-型半导体Cu(In,Ga)(Se,S)2光吸收层(3)薄膜,在光吸收层上形成的透明导电金属氧化物薄膜,其具有n-型导电性并用作窗口层(5)和电极,和在窗口层和Cu(In,Ga)(Se,S)2光吸收层之间的界面层(6),特征在于所述界面层包括第一含硫缓冲层(7)和第二缓冲层(8),所述第一含硫缓冲层(7)包括在Cu(In,Ga)(Se,S)2光吸收层上ALD生长的ZnOxS1-x或者所述第一含硫缓冲层(7)为ALD沉积的In2S3,所述第一含硫缓冲层(7)提高太阳能电池电性能,并且所述第二缓冲层(8)是通过ALD沉积与第一含硫缓冲层整体形成的并包括ZnO,其中x>0并小于等于0.9。 |
地址 |
瑞典乌普萨拉 |