发明名称 薄膜太阳能电池及其形成方法、太阳能电池结构的生产线
摘要 本发明涉及CIGS型的薄膜太阳能电池。本发明的特征在于使用两个整体形成的缓冲层,在CIGS层(3)顶上形成的第一ALD Zn(O,S)缓冲层和在第一缓冲层(7)顶上形成的第二ALD ZnO缓冲层(8)。两个缓冲层都在同一处理步骤中使用ALD(原子层沉积)来沉积。本发明还涉及生产电池的方法和制造电池结构的生产线。
申请公布号 CN1820358B 申请公布日期 2010.10.13
申请号 CN200480019693.3 申请日期 2004.05.05
申请人 索里布罗研究公司 发明人 C·普拉策尔比约尔克曼;J·凯斯莱;L·斯托尔特
分类号 H01L21/363(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;H01L31/072(2006.01)I 主分类号 H01L21/363(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 范赤;段晓玲
主权项 一种薄膜太阳能电池,包括在背面电极层(2)上形成的p-型半导体Cu(In,Ga)(Se,S)2光吸收层(3)薄膜,在光吸收层上形成的透明导电金属氧化物薄膜,其具有n-型导电性并用作窗口层(5)和电极,和在窗口层和Cu(In,Ga)(Se,S)2光吸收层之间的界面层(6),特征在于所述界面层包括第一含硫缓冲层(7)和第二缓冲层(8),所述第一含硫缓冲层(7)包括在Cu(In,Ga)(Se,S)2光吸收层上ALD生长的ZnOxS1-x或者所述第一含硫缓冲层(7)为ALD沉积的In2S3,所述第一含硫缓冲层(7)提高太阳能电池电性能,并且所述第二缓冲层(8)是通过ALD沉积与第一含硫缓冲层整体形成的并包括ZnO,其中x>0并小于等于0.9。
地址 瑞典乌普萨拉