发明名称 制造用于压电谐振器的声反射镜和制造压电谐振器的方法
摘要 制造包括交迭配置的具有高和低声阻抗层的压电谐振器的反射镜,其中首先制作第一层(106b1,106b2),在第一层(106b1,106b2)之上制作第二层(106a1,106a2),由此第二层(106a1,106a2)部分地覆盖第一层(106b1,106b2)。然后,在第一层(106b1,106b2)和第二层(106a1,106a2)之上应用平坦化层(132)。随即,通过构建平坦化层(132)使得第二层(106a1,106a2)的一部分(134)暴露出来,其中此部分与压电谐振器的有源区域(122)相关。最后,通过移除保持在此部分之外的平坦化层(132)的部分(132a,132b)来平坦化最后的结构。
申请公布号 CN101083456B 申请公布日期 2010.10.13
申请号 CN200710092312.X 申请日期 2007.02.17
申请人 安华高科技无线IP(新加坡)私人有限公司 发明人 R·塔尔汉默;S·马克斯泰纳;G·法廷格
分类号 H03H9/15(2006.01)I 主分类号 H03H9/15(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 李晓冬;南霆
主权项 制造具有交迭配置的高和低声阻抗层的声反射镜(106)的方法,其中所述反射镜包括层序列,此层序列具有至少一个高声阻抗层(106a1,106a2)和至少一个低声阻抗层(106b1,106b2),包括步骤:(a)制作层序列的第一层(106b1,106b2);(b)在第一层(106b1,106b2)之上制作层序列的第二层(106a1,106a2),以使得第二层(106a1,106a2)部分地覆盖第一层(106b1,106b2);(c)在第一层(106b1,106b2)和第二层(106a1,106a2)之上应用一平坦化层(132);(d)通过对所述平坦化层(132)进行刻蚀处理而暴露出第二层(106a1,106a2)的一部分(134),其中第二层(106a1,106a2)的所暴露部分(134)与压电谐振器的有源区域(122)相关,所述刻蚀处理参考所述声反射镜结构最上层的材料而具有选择性,使得所述最上层被作为刻蚀终止层;以及(e)通过去除至少保留在第二层(106a1,106a2)的所暴露部分(134)之外的部分平坦化层(132)来平坦化从步骤(d)中得到的结构,其中,反射镜具有多个第一层(106b1,106b2)和多个第二层(106a1,106a2),其中此方法包括下列步骤:对每个连续的第一层(106b1,106b2)和第二层(106a1,106a2)重复步骤(a)至(e)。
地址 新加坡新加坡市