| 发明名称 | 一种控制刀圈以防止显影液残留的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种控制刀圈以防止显影液残留的方法，在该方法中该刀圈以可活动方式设置在晶片背面，与晶片背面之间留有预定的间隙；清洗晶片背面前上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第一间隙；清洗晶片背面时上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第二间隙；且上述第二间隙大于上述第一间隙。本发明的方法既可防止显影液流入晶背中心又可以彻底清洗晶背，解决了晶背显影液残留问题，从而能够提高产品合格率。 | ||
| 申请公布号 | CN101859073A | 申请公布日期 | 2010.10.13 |
| 申请号 | CN200910133660.6 | 申请日期 | 2009.04.13 |
| 申请人 | 和舰科技(苏州)有限公司 | 发明人 | 陈俊秀 |
| 分类号 | G03F7/30(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种控制刀圈以防止显影液残留的方法，其特征在于该刀圈以可活动方式设置在晶片背面，与晶片背面之间留有预定的间隙；清洗晶片背面前上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第一间隙；清洗晶片背面时上述刀圈与上述晶片背面之间的间隙是第二间隙；且上述第二间隙大于上述第一间隙。 | ||
| 地址 | 215025 江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号 | ||