发明名称 具有凸块的基板工艺及其结构
摘要 本发明公开了一种具有凸块的基板工艺及基板结构。该基板工艺包含下列步骤:首先,提供具有本体及多个导电元件的金属基材,接着,形成第一介电层于该本体,且该第一介电层包覆该导电元件,之后,形成多个线路及多个接点于该第一介电层的表面,且该接点电连接该导电元件,接着,形成第二介电层于该第一介电层的该表面,该第二介电层覆盖该线路,最后,图案化该本体以形成多个凸块,该凸块通过该导电元件电连接该接点。本发明通过蚀刻该本体以形成该凸块,其可使该凸块与该导电元件间的结合强度佳,且可降低工艺成本。
申请公布号 CN101221908B 申请公布日期 2010.10.13
申请号 CN200810001488.4 申请日期 2008.01.29
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 王建皓
分类号 H01L21/48(2006.01)I;H01L23/498(2006.01)I 主分类号 H01L21/48(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 彭久云
主权项 一种具有凸块的基板工艺,其包含:提供金属基材,该金属基材具有本体及多个导电元件,该本体具有上表面及下表面,该多个导电元件形成于该本体的该下表面;形成第一介电层于该本体的该下表面,且该第一介电层包覆该多个导电元件,该第一介电层具有第一表面及第二表面;形成多个第一线路及多个接点于该第一介电层的该第二表面,且该多个接点电连接该多个导电元件;形成第二介电层于该第一介电层的该第二表面,该第二介电层覆盖该多个第一线路;以及图案化该本体以形成多个凸块,该多个凸块通过该多个导电元件电连接该多个接点。
地址 中国台湾高雄市