| 发明名称 | 在基底上沉积材料的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种在基底上沉积膜的方法和设备包括紧邻分配器设置的等离子体源，分配器被构造为在基底上提供半导体涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN101861639A | 申请公布日期 | 2010.10.13 |
| 申请号 | CN200980100069.9 | 申请日期 | 2009.01.13 |
| 申请人 | 第一太阳能有限公司 | 发明人 | 瑞克·C·鲍威尔 |
| 分类号 | H01L21/263(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/263(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 韩明星;薛义丹 |
| 主权项 | 一种沉积系统，所述沉积系统包括：分配器，被构造为在基底上提供半导体涂层；第一电源，被构造为加热所述分配器；等离子体源，紧邻所述分配器设置，所述等离子体源包括被构造为驱动所述等离子体源的电极，其中，所述电极电学地独立于所述第一电源。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||