曝光装置

摘要

一种曝光装置，防止由感光树脂层所挥发的挥发物质附着于凹面镜，从而可防止凹面镜的反射率降低及覆盖所述凹面镜表面的反射膜劣化。曝光装置在壳体内具有光源、平面镜、复眼透镜、凹面镜、掩模框架以及承载台，还具有：送风口，设于壳体内并沿着凹面镜的凹面送风；设于送风路径的空气净化过滤器；排气孔，设置于设有承载台的底板上，沿着凹面镜的凹面将送来的空气排出至壳体外；空调装置，配置于壳体的外部，并通过管道与送风口连接，且将从送风口送风的空气的温度和湿度保持在一定范围。曝光装置在经由凹面镜而与送风口相对置的壳体内的壁面上具有导风板，其将沿凹面镜的凹面送来的空气引导至排气孔。

主权项

一种曝光装置，在壳体中设有：光源，照射包含规定波长的紫外线的光；平面镜及凹面镜，使来自该光源的光沿预先设定的光路反射；复眼透镜，配置于上述光路中；掩模框架，支承设于上述凹面镜下方的掩模；承载台，承载基板，并使基板配置成与该掩模框架的掩模相面对；其特征在于，具有：送风口，设于上述壳体内，沿着上述凹面镜的凹面送风；空气净化过滤器，设于上述送风的路径上；排气孔，设于设有上述承载台的底板上，将沿着上述凹面镜的凹面送来的空气排出至所述壳体外面；以及空调装置，配置于上述壳体的外部，并通过管道与上述送风口连接，且将从上述送风口送风的空气的温度和湿度保持在一定范围，防止所述凹面镜反射率降低以及覆盖所述凹面镜表面的反射膜劣化。